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每當(dāng)發(fā)生命案，社會(huì)廣泛關(guān)注，盡早破案，最快找到兇手是每個(gè)人的心聲。但是隨著*罪分子反偵察技術(shù)不斷提高，作案手段智能化發(fā)展趨勢(shì)，*罪分子通過(guò)毀滅證據(jù)，*裝現(xiàn)場(chǎng)等手段，掩蓋或破壞*罪現(xiàn)場(chǎng)，使得刑事偵察難上加難，為此我們有必要借助某些精密設(shè)備，更快的找到*罪第一現(xiàn)場(chǎng)，更快找到真兇，還原事情真相，作出公正的判罰。掃描電鏡在司法鑒定行業(yè)發(fā)揮著不可忽略的作用，它具有檢測(cè)快速簡(jiǎn)便，取材少，無(wú)損檢測(cè)，放大倍數(shù)高等一系列優(yōu)點(diǎn)，成為刑事技術(shù)檢測(cè)的重要工具。ZEM15掃描電鏡是澤攸科技自主研發(fā)的鎢...

在現(xiàn)代制造業(yè)和科研領(lǐng)域，平面度的精確測(cè)量至關(guān)重要。無(wú)論是汽車發(fā)動(dòng)機(jī)的缸蓋密封性檢測(cè)，還是航空發(fā)動(dòng)機(jī)葉片的平整度評(píng)估，都需要依賴高精度的測(cè)量工具。白光干涉儀，憑借其優(yōu)秀的橫向和縱向分辨率，已成為平面度測(cè)量的選擇利器。白光干涉儀的工作原理基于光的干涉現(xiàn)象。當(dāng)一束白光照射在待測(cè)物體表面時(shí)，會(huì)形成反射光和透射光。這兩束光相遇后，會(huì)產(chǎn)生干涉現(xiàn)象，形成明暗相間的干涉條紋。干涉條紋的形狀和間距與物體表面的形貌密切相關(guān)。通過(guò)比較標(biāo)準(zhǔn)平面和待測(cè)物體表面的干涉條紋，我們可以精確計(jì)算出待測(cè)物體表面...

在現(xiàn)代科技飛速發(fā)展的今天，精密測(cè)量?jī)x器的設(shè)計(jì)不僅要滿足高精度的測(cè)量需求，更要注重美觀與集成的便捷性。三維共聚焦白光干涉儀測(cè)量頭，以其杰出的性能和特殊的設(shè)計(jì)，成為了市面上最漂亮的可集成區(qū)域共聚焦傳感器之一。這款測(cè)量頭的設(shè)計(jì)充分體現(xiàn)了現(xiàn)代工業(yè)設(shè)計(jì)的精髓。其外觀簡(jiǎn)潔流暢，線條優(yōu)美，無(wú)論是從哪個(gè)角度看，都透露出一種精致的美感。同時(shí)，它的體積小巧，結(jié)構(gòu)緊湊，這使得它在集成到各種測(cè)量系統(tǒng)中時(shí)，能夠輕松融入，不會(huì)占用過(guò)多空間，也不會(huì)干擾到其他設(shè)備的正常運(yùn)行。更重要的是，這款三維共聚焦白光干...

在當(dāng)今的材料科學(xué)與納米技術(shù)領(lǐng)域，原位分析技術(shù)已經(jīng)成為科學(xué)家們探索微觀世界至關(guān)重要的工具。其中，澤攸科技推出的SEM（掃描電子顯微鏡）和TEM（透射電子顯微鏡）原位分析系統(tǒng)，以其杰出的性能和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，贏得了國(guó)內(nèi)外科研人員的廣泛贊譽(yù)。SEM原位分析系統(tǒng)通過(guò)電子束掃描樣品表面，利用二次電子、背散射電子等信號(hào)成像，能夠直觀展示樣品的表面形貌和化學(xué)成分分布。這一技術(shù)不僅分辨率高，而且景深大，使得樣品表面的微小細(xì)節(jié)得以清晰呈現(xiàn)。更重要的是，澤攸SEM原位分析系統(tǒng)還配備了原位拉伸、加...

Sensofar共聚焦白光干涉儀是一種高性能的3D光學(xué)輪廓測(cè)量?jī)x器，其結(jié)合了共聚焦、干涉測(cè)量等多種先進(jìn)技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)物體表面形貌的高精度測(cè)量。以下是對(duì)其測(cè)量原理與技術(shù)的詳細(xì)解析：一、測(cè)量原理干涉測(cè)量原理干涉技術(shù)的基本原理是將光分成光學(xué)傳播路徑不同的兩個(gè)光束，然后再合并，從而產(chǎn)生干涉現(xiàn)象。在干涉物鏡的作用下，顯微鏡可以作為干涉儀工作。當(dāng)焦點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)后，可在樣本上觀察到干涉條紋。這些條紋的強(qiáng)度和相位信息反映了樣本表面的高度信息。共聚焦測(cè)量原理共聚焦技術(shù)通過(guò)多個(gè)光源和探測(cè)器組合，實(shí)現(xiàn)對(duì)...

隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，芯片尺寸的逐漸縮小以及制造工藝的精細(xì)化，使得對(duì)材料和器件表面精度的要求越來(lái)越高。在半導(dǎo)體行業(yè)，尤其是在集成電路(IC)和光刻工藝中，表面平整度（平面度）的測(cè)量變得尤為重要。傳統(tǒng)的平面度測(cè)量方法往往難以滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的高精度需求，而白光干涉儀因其非接觸、高分辨率、全局性測(cè)量特性，成為半導(dǎo)體行業(yè)中的一種重要工具，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中的平面度檢測(cè)。一、白光干涉儀原理概述本儀器基于干涉原理，利用白光源的寬光譜特性，通過(guò)測(cè)量反射光與參考光之間的干涉條紋來(lái)...

觀察–分析–辨別在微電子學(xué)和微電子機(jī)械系統(tǒng)工業(yè)中，您需要觀察、分析和辨別產(chǎn)品的特性。過(guò)程控制和失效分析中同樣需要使用顯微鏡。設(shè)備物理結(jié)構(gòu)的知識(shí)對(duì)了解過(guò)程至關(guān)重要。微電子產(chǎn)品的開發(fā)和微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）的設(shè)計(jì)依賴于高效的顯微鏡。運(yùn)用不同的光學(xué)顯微技術(shù)，可以檢測(cè)產(chǎn)品的不同特征，如裂紋、孔洞或結(jié)點(diǎn)。在小型機(jī)械設(shè)備制造中，光學(xué)顯微鏡常常被用來(lái)評(píng)估模型及用于監(jiān)測(cè)精密機(jī)械加工結(jié)果。質(zhì)量控制–需要合適的工具三維成像技術(shù)能為很多質(zhì)量控制方面的檢測(cè)提供便利。共焦掃描顯微鏡可檢測(cè)諸如焊接點(diǎn)...

堅(jiān)固耐用的常規(guī)儀器和先進(jìn)的研究工具在機(jī)械工程和多種機(jī)械設(shè)備及配件的生產(chǎn)制造中會(huì)經(jīng)常使用光學(xué)和電子顯微鏡。它們需要堅(jiān)固耐用的常規(guī)標(biāo)準(zhǔn)化測(cè)量?jī)x器和先進(jìn)精密的研究工具。在新材料研發(fā)、表面處理、焊接點(diǎn)和緊固件的過(guò)程控制，以及質(zhì)量控制與失效分析等領(lǐng)域中，您可以使用光學(xué)顯微鏡進(jìn)行檢測(cè)分析。結(jié)構(gòu)檢驗(yàn)鋼結(jié)構(gòu)部件斷裂的根源往往是因?yàn)槲⒂^結(jié)構(gòu)的瑕疵，而斷裂結(jié)構(gòu)以及微觀瑕疵都能在光學(xué)顯微鏡下進(jìn)行觀察辨別。諸如螺母和螺栓等緊固件的完整性對(duì)器具裝置的結(jié)構(gòu)安全而言是相當(dāng)重要的。通常而言，檢驗(yàn)通過(guò)重點(diǎn)關(guān)注...