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布魯克白光干涉光學(xué)輪廓儀微納檢測(cè)觸手可及

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

布魯克白光干涉光學(xué)輪廓儀微納檢測(cè)觸手可及。布魯克Contour X系列以“高適應(yīng)性、易操作、低維護(hù)"為核心設(shè)計(jì)理念,幫助用戶將微納檢測(cè)從專業(yè)實(shí)驗(yàn)室延伸至量產(chǎn)產(chǎn)線,為智能制造提供可靠的質(zhì)量控制手段。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2025-08-19
廠商性質(zhì):代理商
訪問量:63
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技術(shù)亮點(diǎn)與性能突破

布魯克白光干涉光學(xué)輪廓儀微納檢測(cè)觸手可及。 布魯克Contour X系列突破傳統(tǒng)干涉儀的局限性,采用動(dòng)態(tài)相位鎖定技術(shù)與自適應(yīng)光程補(bǔ)償算法,實(shí)現(xiàn):

  • 超寬動(dòng)態(tài)范圍:支持1nm-200μm的垂直測(cè)量跨度,無需切換設(shè)備即可檢測(cè)從原子級(jí)平整表面到微米級(jí)溝槽結(jié)構(gòu)。

  • 智能環(huán)境適應(yīng):內(nèi)置溫度漂移補(bǔ)償模塊(精度±0.01℃/h)與氣壓校正功能,確保車間環(huán)境下的測(cè)量穩(wěn)定性。

  • 多模態(tài)分析:集成共聚焦顯微模塊與偏振干涉選項(xiàng),可同步獲取表面形貌、膜層應(yīng)力與晶體取向信息。

硬件配置與材料選型

  • 光源系統(tǒng):定制化白光LED陣列(色溫6500K,壽命>50,000小時(shí)),配合可調(diào)諧濾波器實(shí)現(xiàn)波長(zhǎng)范圍400-1000nm連續(xù)調(diào)節(jié)。

  • 探測(cè)器:1024×1024像素CMOS相機(jī)(幀率120fps),支持HDR模式下的高動(dòng)態(tài)范圍成像。

  • 運(yùn)動(dòng)控制:閉環(huán)直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)XY平臺(tái)(重復(fù)定位精度±0.1μm),搭配納米級(jí)壓電陶瓷Z軸(分辨率0.01nm)。

典型應(yīng)用案例庫(kù)

行業(yè)檢測(cè)對(duì)象關(guān)鍵參數(shù)解決方案優(yōu)勢(shì)
生命科學(xué)生物芯片微流道側(cè)壁粗糙度Ra<0.3nm非接觸測(cè)量避免樣本污染
汽車電子IGBT芯片焊接面平面度PV<1μm自動(dòng)拼接功能覆蓋大尺寸工件
航空航天渦輪葉片涂層孔隙率檢測(cè)(分辨率0.5μm)3D渲染功能可視化內(nèi)部缺陷


操作流程簡(jiǎn)化設(shè)計(jì)

  1. 一鍵式校準(zhǔn):通過內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)樣塊(臺(tái)階高度100nm±0.5nm)自動(dòng)完成系統(tǒng)標(biāo)定,耗時(shí)<2分鐘。

  2. 智能路徑規(guī)劃:軟件根據(jù)樣品尺寸自動(dòng)生成掃描軌跡,避免重復(fù)測(cè)量與邊緣效應(yīng)。

  3. 云端數(shù)據(jù)管理:支持與布魯克LABSUITE平臺(tái)無縫對(duì)接,實(shí)現(xiàn)測(cè)量數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)上傳與多終端共享。

維護(hù)與售后服務(wù)體系

  • 模塊化維護(hù):光學(xué)頭、運(yùn)動(dòng)平臺(tái)等核心部件采用快速插拔設(shè)計(jì),現(xiàn)場(chǎng)更換時(shí)間<30分鐘。

  • 預(yù)防性維護(hù):通過IoT模塊遠(yuǎn)程監(jiān)控設(shè)備狀態(tài),提前預(yù)警光源衰減、電機(jī)磨損等潛在故障。

  • 全球服務(wù)網(wǎng)絡(luò):在28個(gè)國(guó)家設(shè)立技術(shù)中心,提供72小時(shí)內(nèi)響應(yīng)的現(xiàn)場(chǎng)支持服務(wù)。

布魯克Contour X系列以“高適應(yīng)性、易操作、低維護(hù)"為核心設(shè)計(jì)理念,幫助用戶將微納檢測(cè)從專業(yè)實(shí)驗(yàn)室延伸至量產(chǎn)產(chǎn)線,為智能制造提供可靠的質(zhì)量控制手段。布魯克白光干涉光學(xué)輪廓儀微納檢測(cè)觸手可及


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