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澤攸臺階儀
澤攸臺階儀:納米級形貌測量的創新之選
澤攸臺階儀:納米級形貌測量的創新之選在半導體制造、新材料研發與生物醫療領域,微觀表面形貌的精準量化是推動技術迭代的核心要素。澤攸科技憑借多年技術沉淀,推出JS系列臺階儀,以模塊化設計與自主創新技術,為科研與工業用戶提供高適應性的形貌測量解決方案。
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澤攸臺階儀:納米級形貌測量的創新之選
在半導體制造、新材料研發與生物醫療領域,微觀表面形貌的精準量化是推動技術迭代的核心要素。澤攸科技憑借多年技術沉淀,推出JS系列臺階儀,以模塊化設計與自主創新技術,為科研與工業用戶提供高適應性的形貌測量解決方案。
JS系列涵蓋JS100B、JS200B、JS300B及全自動型號JS2000B,適配不同場景需求:
型號對比:
型號 | 適用晶圓尺寸 | 最大測量范圍 | 垂直分辨率 | 重復性偏差 | 采樣速度 |
---|---|---|---|---|---|
JS100B | ≤150mm | 80μm | 0.05nm | ≤0.5nm | 200Hz |
JS200B | ≤200mm | 80μm | 0.05nm | ≤0.5nm | 200Hz |
JS300B | ≤300mm | 80μm | 0.05nm | ≤0.5nm | 200Hz |
JS2000B | 全自動 | 80μm | 0.05nm | ≤0.5nm | 動態優化 |
雙LVDT傳感器技術
澤攸臺階儀采用自主研發的直立式雙LVDT傳感器,突破傳統杠桿式結構局限。傳感器1實時監測探針壓力(恒力范圍0.5-50mg),傳感器2反饋壓電陶瓷位移,實現“所測即所得"的線性測量,避免圓弧補償誤差。在鈣鈦礦薄膜厚度測量中,該技術可將35-40nm超薄層的重復性偏差控制在0.5nm以內。
超平掃描臺與動態調焦
配備納米光柵反饋系統與超光滑平晶導軌,掃描平整度達20nm/2mm,支持55mm長距離掃描。JS2000B型號集成正視/側視高像素相機,結合主動聚焦技術,可在掃描前快速定位樣品測試點,避免離焦導致的邊緣失真,尤其適用于柔性電子器件的曲面掃描。
多場景探針配置
提供標準探針(曲率半徑>2μm)與亞微米探針(曲率半徑<1μm)兩種選擇。在MEMS陀螺儀表面波紋測量中,亞微米探針可捕捉曲率半徑≤1μm的微觀結構,同時通過動態力控避免損傷樣品。
澤攸臺階儀:納米級形貌測量的創新之選