在納米材料研發(fā)、薄膜技術研究、生物醫(yī)用材料設計等科研領域，對材料表面微觀 3D 結構的精準分析是揭示材料性能機制的關鍵，Sensofar 3D 共聚焦白光干涉儀 S neox 憑借高分辨率測量能力與靈活的實驗適配性，成為科研團隊探索納米尺度結構的實用工具，為材料研發(fā)提供從形貌觀察到數據量化的全流程支持。
一、產品細節(jié)：科研級設計適配實驗需求
S neox（3D 共聚焦白光干涉儀）在結構設計上充分考慮科研場景的多樣性，機身采用模塊化組裝方式，核心光學模塊、樣品臺模塊與控制模塊可獨立拆卸，便于根據實驗需求進行定制化改造，例如加裝高溫樣品臺、低溫樣品臺或電學測試附件，實現原位環(huán)境下的 3D 輪廓測量。機身尺寸與基礎款保持一致（600mm×500mm×750mm），重量 70kg，可輕松融入高校實驗室、科研院所的實驗平臺，無需專門改造場地。
光學系統的防護等級提升至 IP54，能有效抵御實驗室常見的粉塵與少量濺水，適合長期處于開放實驗環(huán)境中的使用需求。鏡頭接口除兼容基礎款的 6 種倍率物鏡外，還支持適配特種物鏡（如長工作距離物鏡、偏光物鏡），長工作距離物鏡（工作距離 10mm）可用于測量帶有復雜附件的樣品（如生長中的薄膜樣品），偏光物鏡則能結合偏光技術分析材料的光學各向異性，拓展實驗研究維度。
樣品臺在基礎款電動控制的基礎上，新增 “手動微調" 模式，當科研人員需要對特定微觀區(qū)域進行精準定位時，可通過旋鈕進行微米級微調，搭配樣品臺自帶的刻度標尺（精度 0.01mm），能快速記錄樣品測量位置，便于后續(xù)重復實驗驗證。操作界面除 15.6 英寸觸控屏外，還支持外接專業(yè)繪圖板，方便科研人員在測量圖像上標注特征區(qū)域，直接在軟件中完成數據分析標注，減少后期處理工作量。
二、產品性能：高分辨率支撐納米尺度分析
S neox（3D 共聚焦白光干涉儀）的共聚焦模塊經過科研級優(yōu)化，采用高穩(wěn)定性 LED 白光光源，光譜輸出波動范圍控制在 ±2% 以內，確保長期實驗中光源強度的一致性，避免因光源波動導致的測量數據偏差。搭配背照式 CMOS 圖像傳感器（200 萬像素，1920×1080），傳感器的量子效率提升至 70%（450nm～650nm 波段），能捕捉到更微弱的反射光信號，適合測量低反射率的納米材料（如二氧化硅薄膜、碳納米管薄膜），橫向分辨率保持 0.12μm（100x 物鏡），可清晰呈現納米顆粒的團聚狀態(tài)、納米線的直徑分布。
白光干涉模塊的算法進行了科研級升級，新增 “動態(tài)干涉條紋分析" 功能，可實時記錄干涉條紋的變化過程，結合軟件的相位解包裹算法，縱向測量分辨率進一步優(yōu)化至 0.05nm，測量范圍覆蓋 0.5nm～10mm，既能精準測量納米級薄膜的厚度（如 10nm 厚度的金屬薄膜），也能分析毫米級臺階的高度差（如微流控芯片的通道深度）。在納米材料研究中，可通過該模塊量化分析納米顆粒的粒徑分布（誤差 ±2%）、納米薄膜的表面起伏度（PV 值，峰值與谷值之差），為材料性能與微觀結構的關聯研究提供量化數據。
設備還具備 “時間序列測量" 功能，科研人員可設置固定時間間隔（最小 10 秒 / 次），對同一區(qū)域進行連續(xù) 3D 輪廓測量，記錄材料在外界刺激（如溫度變化、光照照射）下的結構動態(tài)變化，例如觀察納米涂層在加熱過程中的表面收縮情況、水凝膠材料在吸水過程中的膨脹速率，為材料動態(tài)性能研究提供直觀的 3D 結構演變數據。
三、用材與參數：科研級部件保障數據可靠性
核心光學部件選用科研級材料，光學鏡頭采用超低色散氟冕玻璃，相較于基礎款的低色散玻璃，氟冕玻璃能進一步減少不同波長光線的色散差異，在全光譜范圍（450nm～650nm）內保持一致的成像分辨率，避免因波長差異導致的測量誤差，尤其適合對多波長光學特性敏感的材料研究（如光子晶體材料）。鏡頭鍍膜采用離子輔助鍍膜技術，膜層附著力提升 30%，長期使用后不易出現膜層脫落，保障光學性能穩(wěn)定性。
樣品臺導軌采用陶瓷材料，陶瓷導軌的熱膨脹系數僅為 1.5×10??/℃，遠低于金屬導軌，在溫度波動較大的實驗室環(huán)境中（如晝夜溫差 5℃），仍能保持 ±0.05μm 的移動精度，避免溫度變化導致的樣品定位偏差。測量軟件內置 “數據溯源" 功能，每次測量會自動記錄設備狀態(tài)參數（如光源強度、物鏡倍率、環(huán)境溫度），并與測量數據綁定保存，便于科研人員后期追溯實驗條件，確保實驗結果的可重復性與可驗證性。
以下為 S neox（3D 共聚焦白光干涉儀）的科研場景核心參數表：
四、用途與使用說明：覆蓋多領域科研需求
S neox（3D 共聚焦白光干涉儀）在科研領域的用途廣泛，在納米材料研發(fā)中，可用于碳納米管薄膜的表面粗糙度測量（Ra 值）、量子點薄膜的厚度均勻性分析，判斷制備工藝（如旋涂速度、退火溫度）對材料微觀結構的影響；在薄膜技術研究中，能監(jiān)測薄膜生長過程中的厚度變化（如原子層沉積薄膜的逐層生長），計算薄膜生長速率，優(yōu)化生長參數；在生物醫(yī)用材料設計中，可分析支架材料的孔隙結構（孔徑大小、孔隙率），評估材料與細胞的相容性；在能源材料研究中，能觀察電池電極材料的表面形貌變化（如充放電循環(huán)后的電極膨脹），揭示電池性能衰減機制。
科研場景下的使用說明如下：首先根據研究目標確定測量方案，若進行原位高溫測量，需提前安裝高溫樣品臺并連接溫度控制器，將溫度校準至實驗所需范圍（如 200℃），保溫 30 分鐘確保溫度穩(wěn)定；然后制備樣品，納米材料樣品需進行清潔處理（如超聲清洗去除表面雜質），薄膜樣品需固定在專用載玻片上，確保樣品表面平整無褶皺；打開設備電源與科研版測量軟件，軟件會自動檢測外接附件狀態(tài)（如高溫樣品臺是否連接正常），確認無誤后進入參數設置界面，選擇 “科研模式"，設置物鏡倍率（如 50x 用于納米顆粒觀察）、測量區(qū)域（如 200μm×200μm）、測量模式（共聚焦 + 白光干涉同步采集）；點擊 “自動對焦" 后，軟件會自動掃描樣品表面，生成對焦清晰度曲線，科研人員可根據曲線選擇優(yōu)良對焦平面，確保測量區(qū)域的清晰度；啟動測量后，設備會同步采集 2D 共聚焦圖像與 3D 干涉數據，時間序列測量需額外設置測量次數與間隔時間；測量完成后，軟件自動生成 3D 輪廓模型、表面參數報告（Ra、Rq、PV）與數據原始文件，科研人員可直接導出原始數據用于后續(xù)建模分析（如導入有限元分析軟件），也可在軟件中進行數據統計（如納米顆粒粒徑分布直方圖）。
使用過程中需注意，原位實驗前需進行 3 次空白實驗，驗證附件對測量精度的影響；測量低反射率樣品時，需在軟件中開啟 “弱信號增強" 功能，提升圖像信噪比；設備每次更換實驗環(huán)境后，需進行 1 小時預熱，待光學系統穩(wěn)定后再開始測量，確保數據一致性。
五、型號特點：科研適配性突出
作為 Sensofar 針對科研領域推出的 3D 共聚焦白光干涉儀，S neox 的核心優(yōu)勢在于科研級的性能穩(wěn)定性與實驗適配性。其高分辨率測量能力能滿足納米尺度的精細分析需求，時間序列測量、原位附件兼容等功能則為動態(tài)實驗、環(huán)境敏感實驗提供可能；原始數據導出功能支持與各類科研分析軟件兼容，便于科研人員進行深度數據挖掘，為論文發(fā)表提供可靠的數據支撐。
同時，設備的操作門檻保持適中，科研團隊中的研究生經過 1～2 次培訓即可獨立完成基礎測量，資深研究人員則可通過定制化改造拓展實驗維度，兼顧了團隊不同人員的使用需求。無論是探索納米材料的微觀結構機制，還是優(yōu)化功能材料的制備工藝，S neox 都能以精準的 3D 分析能力，成為科研團隊推進研究進展的實用助手。
當前位置：
相關文章
上一個：
返回列表
服務熱線：
公司地址：
公司郵箱：
產品簡介
產品分類